ダイヤモンドシンポジウム講演プログラム（第２３回） |
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第２３回 ダイヤモンドシンポジウム講演プログラム |
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日 時：平成21年11月18日（水），19日（木），20日（金） 会 場：千葉工業大学
第1日（11月18日）
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| 10:00～12:00 座長 石原正統（産総研） | |
| 101 |
複合効果処理により鋼基板への炭素系膜の形成 (千葉工大) ○坂本幸弘，高谷松文 |
| 102 | Structure and Properties of Amorphous Carbon Films Deposited by Sublimation of C60 Fullerene in Electron Beam Excited Plasma (東工大) ○Hamed Vaez Taghvi，平田 敦 |
| 103 | PE-CVD法によるDLC膜のｷｬﾗｸﾀﾘｾﾞｰｼｮﾝ (ﾕｰﾃｯｸ，千葉工業大学*) ○早川晴仁，阿部浩二，寺島慶一* |
| 104 | DLC膜のﾄﾗｲﾎﾞﾛｼﾞｰ特性に及ぼす前処理条件の影響 (ｼﾞｪｲﾃｸﾄ) ○鈴木雅裕，保木井美和，斎藤利幸 |
| 105 | DLC成膜したｽﾃﾝﾚｽ鋼の耐摩耗･耐腐食性に及ぼすCr中間層の効果 (名古屋大，東工大*) ○高島 舞，大竹尚登* |
| 106 | ﾊﾟﾙｽ化した直流ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによる電気二十層ｷｬﾊﾟｼﾀ用多孔質ｶｰﾎﾞﾝ膜の形成 (中部大) ○野田三喜男，松島真央，梅野正義 |
12:00～13:00 昼 休 み |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 13:00～15:20 大竹尚登（東工大） | |
| 107 | 第一原理電子構造研究による同位体ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの構造と電子状態予言 (東工大) ○斎藤 晋，山上雄一郎，櫻井誠大，是常 隆 |
| 108 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞを用いた同位体ﾎﾓ接合ﾊﾞﾝﾄﾞｴﾝｼﾞﾆｱﾘﾝｸﾞ (産総研) ○渡邊幸志，鹿田真一 |
| 109 |
単一NV中心における同位体炭素(13C，12C)を用いた量子情報研究 |
| 110 | ｾﾝﾀｰの量子情報処理･磁束系への応用の課題と欠陥制御 (筑波大，日本原子力研究開発機構*，NIMS**，住友電工***) ○磯谷順一，大島 武*，小野田忍*，森下憲雄*，谷口 尚**，渡邉賢司**，神田久生**，角谷 均*** |
| 111 | ﾅﾉﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ膜の熱伝導率に及ぼす界面熱抵抗の影響 (産総研，ﾋﾟｺｻｰﾑ*) ○石原正統，津川和夫，金 載浩，古賀義紀，長谷川雅考，石川佳寿子*，馬場哲也* |
| 112 | 半導体検査装置の電気接触子への導電性CVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ膜の応用 (九州工大，熊本県産技ｾﾝﾀｰ*，ｻﾝﾕｰ工業**)○坪田敏樹，濱山知勇，村上直也，横野照尚，末永知子*，長畑博之** |
| 113 | CVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ(001)表面伝導層の表面敏感C1s内殻光電子ｽﾍﾟｸﾄﾙ (東北大，Yonsei Univ. Korea*) ○河野省三，S.H.Kang*，斉藤 達，H.W.Yeom* |
15:20～15:40 休 憩 |
ポスターセッション（Ｂ会場） |
| 15:40～18:00 | |
| P1-01 | ﾊﾞｲｱｽ核発生におけるﾒﾀﾝ濃度及び基板温度がｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ成長に与える影響 (青学大，ﾄｳﾌﾟﾗｽｴﾝｼﾞﾆｱﾘﾝｸﾞ*) ○松岡 遼，鈴木一博*，澤邊厚仁 |
| P1-02 | ｲﾘｼﾞｳﾑ/ｻﾌｧｲｱへのｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ薄膜成長～ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ成長条件の最適化～ (青学大，ﾄｳﾌﾟﾗｽｴﾝｼﾞﾆｱﾘﾝｸﾞ*，並木精密**)○熊木大介，鈴木一博*，古滝敏朗**，澤邊厚仁 |
| P1-03 | 中空ﾌｧｲﾊﾞｰ構造からなる導電性ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ多孔質体の作製 (東京理科大) ○児玉泰孝，近藤剛史，湯浅 真 |
| P1-04 | ｼﾘｻｲﾄﾞ化による超硬合金基材へのﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞｺｰﾃｨﾝｸﾞ (電通大) ○荒木祐輔，一色秀夫，木村忠正，関口紗弥佳 |
| P1-05 | MMSiを用いたSi基板上へのﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞのﾍﾃﾛｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙ核発生の検討 (電通大) ○吉田樹央，一色秀夫 |
| P1-06 | 下地研磨ﾌﾟﾛｾｽに起因するﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面形態の変化 (物材機構) ○寺地徳之 |
| P1-07 | ｽﾃﾝﾚｽ基材へのﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞｺｰﾃｨﾝｸﾞ (電通大) ○関口紗弥佳，一色秀夫，荒木祐輔 |
| P1-08 | 大気開放ﾌﾟﾗｽﾞﾏﾌﾟﾛｾｽによるﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ成膜に関する研究－成膜条件と膜質について－ (愛媛大) ○八木秀次，本村秀樹，神野雅文，青山善行 |
| P1-09 | 熱ﾌｨﾗﾒﾝﾄCVDによるﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ合成におけるﾅﾉﾊﾟﾙｽ援用効果 (東工大) ○永島清成，望月佳彦，村上碩哉，大竹尚登 |
| P1-10 | H2Sｶﾞｽを用いたSﾄﾞｰﾌﾟ多結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ膜の作製 (東大･生産研) ○藤田龍平，野瀬健二，光田好孝 |
| P1-11 | ﾏｲｸﾛ波ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによるCH4-H2-02系からの高圧合成ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ上へのﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ合成 (千葉工大) ○吉原正隆，坂本幸弘，高谷松文 |
| P1-12 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ合成のためのﾏｲｸﾛ波ﾌﾟﾗｽﾞﾏの数値解析及び実験との比較 (産総研) ○山田英明，茶谷原昭義，杢野由明，鹿田真一 |
| P1-13 | 高濃度ﾒﾀﾝ原料によるﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ系薄膜の合成および成長ﾒｶﾆｽﾞﾑ (慶應大) ○伊東誠司，和田章裕，福山 塁，鈴木哲也 |
| P1-14 | ﾘﾝｸﾞ共振型ﾏｲｸﾛ波ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDを用いたﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ系薄膜の低温成長 (電通大) ○飛田龍太郎，一色秀夫，前田由美 |
| P1-15 | ﾌﾗｰﾚﾝ溶液を利用して成膜したDLC薄膜の構造評価 (日工大) ○清水裕章，伴 雅人 |
| P1-16 | ArのECRﾌﾟﾗｽﾞﾏにおけるC2H2の解離励起反応解析 (長岡技科大) ○越村克明，鬼束さおり，斉藤秀俊，伊藤治彦 |
| P1-17 | 摺動部材への応用を目指したAl合金上への高付着力DLC膜の形成 (東大･生産研) ○佐々木勇斗，野瀬健二，光田好孝 |
| P1-18 | 高密度DLC膜の作製技術とその特性 (石川県工業試験場) ○安井治之 |
| P1-19 | ﾊﾟﾙｽ化した直流放電を用いたﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによるDLC膜のｺｰﾃｨﾝｸﾞ (中部大，中川製作所*) ○野田三喜男，園田雅紀*，中川雅弘* |
| P1-20 | 化学ﾄﾞｰﾋﾟﾝｸﾞ法によるa-C:H薄膜へのﾖｳ素ﾄﾞｰﾋﾟﾝｸﾞ (琉球大) ○遠江栄希，中橋崇紘，山里将朗，比嘉 晃 |
| P1-21 | ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾁｭｰﾌﾞ/Al複合薄膜の作製と構造評価 (東海大) ○閏間謙次，島田啓吾，葛巻 徹 |
| P1-22 | 周期的円錐空洞配列構造を有するｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾌｧｲﾊﾞｰの成長条件の検討と熱処理による空洞内部への金属粒子形成 (三重大) ○今井智仁，小塩 明，小海文夫 |
| P1-23 | ｱｾﾁﾚﾝの爆轟を用いた機能性炭素粉末の合成 (日工大) ○加藤 翔，竹内貞雄 |
| P1-24 | ｱﾙｺｰﾙ蒸気を用いたｱｰｸ放電法による多面体ｸﾞﾗﾌｧｲﾄ粒子の形成 (三重大) ○山本 誠，小塩 明，小海文夫 |
| P1-25 | ｶｰﾎﾞﾝｵﾆｵﾝを添加した炭化ﾀﾝｸﾞｽﾃﾝ焼結体の作製および評価 (東工大) ○中川一平，平田 敦 |
| P1-26 | ｲﾝﾌﾟﾘﾝﾄ用３次元ｶﾞﾗｽ状炭素ﾅﾉﾓｰﾙﾄﾞの作製 (舞鶴高専，山梨大*，ｴﾘｵﾆｸｽ**)○荒木慎司，清原修二，倉島優一*，田口佳男** |
| P1-27 | Arのﾏｲｸﾛ波放電ﾌﾛｰを用いたｱﾓﾙﾌｧｽ炭化ｹｲ素膜の形成 (長岡技科大) ○大柿 猛，戸田育民，赤坂大樹，斉藤秀俊，伊藤治彦 |
| P1-28 | 窒化炭素結晶合成に向けたﾌﾗｯｸｽ探索－超高圧を用いた取り組み－ (物材機構) ○川村史朗，谷口 尚 |
| P1-29 | CNﾗｼﾞｶﾙの付着確率 (長岡技科大) ○新木一志，和田 晃，斉藤秀俊，伊藤治彦 |
| P1-30 | 高周波ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによるｱﾓﾙﾌｧｽ窒化炭素薄膜の生成 (長岡技科大) ○工藤貴広，大柿 猛，斉藤秀俊，伊藤治彦 |
| P1-31 | CH3CNのﾏｲｸﾛ波放電分解によるa-CNx:H膜の形成 (長岡技科大) ○福原 翔，大柿 猛，斉藤秀俊，伊藤治彦 |
| P1-32 | 異なる反応ｶﾞｽからのﾏｲｸﾛ波ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによる窒化炭素合成 (千葉工大) ○井上昌利，坂本幸弘，高谷松文 |
| P1-33 | ﾊﾞｲｱｽ支援核形成による窒化炭素膜の作製 (千葉工大) ○坂本幸弘，萩原正悟，高谷松文 |
| P1-34 | He添加による立方晶窒化ﾎｳ素薄膜の残留応力緩和 (長岡技科大) ○大堀鉄太郎，白幡 淳，赤坂大樹，鈴木常生，中山忠親，末松久幸，新原晧一 |
| P1-35 |
02ﾌﾟﾗｽﾞﾏによるMethyl-BCN膜への影響評価 |
| P1-36 |
Methyl-BCN薄膜の作製と光学的特性評価 |
| P1-37 | RF反応性ｽﾊﾟｯﾀﾘﾝｸﾞによるBN膜の作製におけるｽﾊﾟｯﾀｶﾞｽの影響 (千葉工大) ○今宮麻衣，小林厚輝，坂本幸弘，高谷松文 |
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第2日（11月19日）
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| 9:20～10:20 座長 澤邊厚仁（青山学院大） | |
| 201 | 多結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの微細形状形成技術の開発(II) (ﾄｰﾒｲﾀﾞｲﾔ，協同ｲﾝﾀｰﾅｼｮﾅﾙ*，栃木県産技ｾﾝﾀｰ**,東工大***) ○吉川博道，三田正弘，竹澤信隆，吉本 護 |
| 202 | 室温ﾅﾉｲﾝﾌﾟﾘﾝﾄﾘｿｸﾞﾗﾌｨによるﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの3次元ﾅﾉﾊﾟﾀｰﾝ形成 (舞鶴高専，豊橋技科大*，ｴﾘｵﾆｸｽ**) ○柏木大幸，清原修二，滝川浩史*，田口佳男** |
| 203 | ﾊﾞｲｱｽ処理におけるﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ核形成条件のﾌﾟﾗｽﾞﾏ診断とｲｵﾝｴﾈﾙｷﾞｰ分布の数値計算 (東大･生産研) ○野瀬健二，光田好孝 |
10:20～10:40 休 憩 |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 10:40～12:00 座長 葛巻 徹（東海大） | |
| 204 | PPS樹脂上のﾅﾉﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ膜の成長機構 (産総研) ○津川和夫，石原正統，金載浩，古賀義紀，長谷川雅考 |
| 205 | ﾅﾉ多結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの特性と工業的応用 (住友電工) ○角谷 均，原野佳津子，佐藤 武 |
| 206 | 大気圧合成法を越える低圧化でのﾘﾓｰﾄﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDによる超尺・垂直配向単層ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾁｭｰﾌﾞの高速成長 (早大) ○加藤良吾，川原田 洋 |
| 207 | ﾚｰｻﾞｰ蒸発法により形成される多層ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾁｭｰﾌﾞの直径および層数 (三重大) ○小海文夫，野崎伊織，小塩 明 |
12:00～13:00 昼 休 み |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 13:00～14:00 座長 野瀬健二（東大･生産研） | |
| 208 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ基板上の単結晶AIN薄膜のﾍﾃﾛｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙ成長機構 (NTT･物性研) ○平間一行，谷保芳孝，嘉数 誠 |
| 209 | 低圧CVD法による非金属基板上への深紫外発光性六方晶窒化ﾎｳ素の薄膜堆積 (物材機構) ○津田 統，渡邊賢司，谷口 尚 |
| 210 |
Ni基金属系溶媒を用いた六方晶窒化ﾎｳ素結晶の液相成長 |
14:00～14:20 休憩 |
特別講演（Ａ会場）14:20～15:10 座長 光田好孝（東大･生産研） 「ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ，c-BN，DLCの研究を振り返って」 講演者 日本工業大学専門職大学院 技術経営研究科 教授 村川 正夫 氏 |
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15:10～15:30 休 憩 |
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ポスターセッション（Ｂ会場） |
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| 15:30～17:30 | |
| P2-01 | CVD法によって作製したｱﾝﾄﾞｰﾌﾟ単結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ自立板の結晶性 (産総研) ○坪内信輝，杢野由明，茶谷原昭義 |
| P2-02 | ﾎﾓｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙﾏｲｸﾛ波ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ薄膜の各種分析評価 (神奈川大) ○加藤健一，星野 靖，斎藤保直，中田穣治 |
| P2-03 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ(001)2x1表面伝導層の光電子顕微鏡観察 (東北大) ○河野省三，斎藤 達，河田宏史，後藤忠彦 |
| P2-04 | ﾘﾝﾄﾞｰﾌﾟn型ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ薄膜における電子散乱：非弾性散乱評価法の比較 (玉川大) ○月岡邦夫 |
| P2-05 | ﾅﾉ多結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの光学特性 (住友電工) ○有元桂子，原野佳津子，角谷 均 |
| P2-06 | 加熱処理したﾅﾉﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ粒子の構造および砥粒性能の変化 (東工大) ○向後博康，平田 敦 |
| P2-07 | DLC膜の真空中における摩擦特性改善 (日工大) ○ﾑﾙｻﾗﾄﾞｩ，渡部修一 |
| P2-08 | 多層性ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞﾗｲｸｶｰﾎﾞﾝの機械的特性の解析 (慶應大，東邦大医療ｾﾝﾀｰ佐倉病院*)○大竹正頼，長谷部光泉*，堀田 篤，鈴木哲也 |
| P2-09 | ﾌﾟﾗｽﾞﾏCVDで作製したDLC膜の内部応力に及ぼす諸因子の影響 (ﾕｰﾃｯｸ，千葉工大*) ○阿部浩二，早川晴仁，寺島慶一* |
| P2-10 | 水素化ｱﾓﾙﾌｧｽ炭素膜の弾性反跳粒子検出法による水素量測定における最適厚さ (長岡技科大) ○赤坂大樹，水口和也，鈴木常生，大塩茂夫，斎藤秀俊 |
| P2-11 | 結晶面選択的吸着現象を応用した金／白金／ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ複合表面の作製 (東京理科大) ○平田孝輔，近藤剛史，河合武司 |
| P2-12 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞﾅﾉﾜｲﾔｰDNAｾﾝｻｰの定量性 (産総研，Fraunhofer Institute for Applied Solid-State Physics*) ○上塚 洋，楊 年俊*，ﾈｰﾍﾞﾙ ｸﾘｽﾄﾌ*，藤森直治 |
| P2-13 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面におけるｱﾌﾟﾀﾏｰを介したATP検出 (早大) ○石山雄一郎，武田芳幸，田島慎也，川原田 洋 |
| P2-14 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面のｶﾙﾎﾞｷｼﾙ基修飾によるSNPs検出 (早大) ○石井陽子，田島慎也，川原田 洋 |
| P2-15 | 光科学修飾法を用いたﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ電極表面の機能化とｸﾞﾙｺｰｽｾﾝｻｰへの応用 (東京理科大) ○今井順一，近藤剛史，河合武司 |
| P2-16 | ｸﾞﾙｺｰｽｵｷｼﾀﾞｰｾﾞ/ｺﾊﾞﾙﾄﾌﾀﾛｼｱﾆﾝ修飾ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ電極の作製と高感度ｸﾞﾙｺｰｽｾﾝｻｰへの応用 (東京理科大) ○堀谷 勝，近藤剛史，湯浅 真 |
| P2-17 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ電極によるｺｴﾝｻﾞｲﾑQ10の高感度電気化学検出 (東京理科大) ○酒井和也，五十嵐政嗣，近藤剛史，湯浅 真 |
| P2-18 | N-ｸﾛﾛｺﾊｸ酸ｲﾐﾄﾞを利用した水素化ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面とﾋﾟﾘｼﾞﾝｶﾙﾎﾞﾝ酸および類似した化合物の反応性 (九州工大) ○坪田敏樹，山根順一，村上直也，横野照尚 |
| P2-19 | 表面ｽﾙﾎ化による機能性ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞﾅﾉ粒子の作製 (東京理科大) ○亀島 貴，近藤剛史，河合武司 |
| P2-20 | ｼﾗﾝｶｯﾌﾟﾘﾝｸﾞ剤によりAPS改質されたDLC膜の細胞親和性評価 (東京電機大) ○星野祐太，松尾晴貴，大越康晴，平栗健二 |
| P2-21 | 再生医療のための窒素添加a-C:H膜の生体適合性評価 (東京電機大) ○鳥生敦子，松尾晴貴，大越康晴，平栗健二 |
| P2-22 | 水素化ｱﾓﾙﾌｧｽ炭素系膜表面へのﾀﾝﾊﾟｸ質の吸着検出 (長岡技科大) ○赤坂大樹，竹田 葵，鈴木常生，大塩茂夫，斎藤秀俊 |
| P2-23 | 血管内皮細胞模擬形状―DLC複合化表面を用いた新規人工血管用材料の創製 (慶應大，東邦大医療ｾﾝﾀｰ佐倉病院*)○堀越 拓，長谷部光泉*，堀田 篤，鈴木哲也 |
| P2-24 | DLCをｺｰﾃｨﾝｸﾞしたﾎﾟﾘﾏｰ材料の薬剤溶出性 (慶應大，東邦大医療ｾﾝﾀｰ佐倉病院* ,横浜市大付属病院**) ○浅川玲奈，長谷部光泉*，榎本圭祐，上條亜紀**，高橋孝喜，鈴木哲也，堀田 篤 |
| P2-25 | DLCｺｰﾃｨﾝｸﾞした歯科材料の機械的特性と生体親和性 (東工大，名古屋大*，ふくはうちﾃｸﾉﾛｼﾞｰ**)○宮部一二三，高島 舞*，内 富男**，高井 治*，大竹尚登 |
| P2-26 | 六方晶窒化ﾎｳ素を発光層に用いた遠紫外面発光ﾃﾞﾊﾞｲｽ (物材機構，双葉電子工業*) ○渡邊賢司，谷口 尚，新山剛宏*，宮 健太*，谷口昌照* |
| P2-27 | 有限要素法による電界放出型光源の構造開発 (高知FEL) ○大岡昌洋，笹岡秀紀，西村一仁 |
| P2-28 | ｿｰｽ･ﾄﾞﾚｲﾝにﾎﾞﾛﾝﾄﾞｰﾌﾟ層を選択成長させた(111)水素終端ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞMOSFETsの電気特性評価 (早大) ○小野 祐，市川 大，津野哲也，川原田 洋 |
| P2-29 | 高圧高温ｱﾆｰﾙで高効率化したﾎﾞﾛﾝ注入ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞFETの高耐圧、高温動作 (NTT物性科研) ○嘉数 誠，植田研二，山内喜晴 |
| P2-30 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ超伝導薄膜を用いたｽﾃｯﾌﾟ構造ｼﾞｮｾﾌｿﾝ接合の特性評価 (早大，物財機構*) ○野村 亮，河野明大，川原田 洋，高野義彦* |
| P2-31 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞSBD特性の結晶品質依存性 (産総研) ○梅沢 仁，ｱｼｭﾗﾌ ｵﾏﾙ，鹿田真一 |
| P2-32 | 横方向成長によるﾗｲﾝ状ﾍﾃﾛｴﾋﾟﾀｷｼｬﾙﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの接合 (青学大，ﾄｳﾌﾟﾗｽｴﾝｼﾞﾆｱﾘﾝｸﾞ*)○鷲山 瞬，三田清二，鈴木一博*，澤邊厚仁 |
| P2-33 | ﾄﾞﾗｲﾌﾟﾚｽ用ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞｺｰﾃｯﾄﾞ絞りﾀﾞｲｽの開発 (日工大，湘南工科大*) ○鈴木 航，竹内貞雄，片岡征二* |
| P2-34 | 電子顕微鏡用ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ電子源の画像分解能評価 (住友電工) ○植田暁彦，池田和寛，西林良樹，今井貴浩 |
| P2-35 |
CVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞを用いた電子透過窓の作製 |
| P2-36 |
DLCを用いた電子透過窓の作製 |
| P2-37 | ﾓﾝﾃｶﾙﾛ法によるDLC薄膜の電子透過性能の評価 (広島県総技研･西部工技ｾﾝﾀｰ，広島国際大*，神奈川県産技ｾﾝﾀｰ**）○伊藤幸一，縄稚典生，本多正英， 筒本隆博，山本 晃，上月具挙*，金子 智** |
| P2-38 | 形状記憶合金上に作製したﾀﾝｸﾞｽﾃﾝを含むDLC膜の繰り返し曲げ試験による疲労強度評価 (東北大) ○塩田浩之，竹野貴法，三木寛之，高木敏行 |
| P2-39 |
PBll法及び多元ﾏｸﾞﾈﾄﾛﾝｽﾊﾟｯﾀ法でのDLC及びSi含有DLC成膜によるﾏｸﾞﾈｼｳﾑ合金の耐食性の向上 |
懇親会（於：未定） 18:00～ |
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第3日（11月20日）
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| 9:20～10:40 座長 中村挙子（産総研） | |
| 301 | ﾌｪﾆﾙﾎﾞﾛﾝ酸修飾ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面でのｱﾃﾞﾉｼﾝ三ﾘﾝ酸(ATP)の検出 (早大) ○新井裕史，田島慎也，川原田 洋 |
| 302 | 機能化したﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面上におけるｱﾌﾟﾀﾏｰを用いた血小板成長因子(PDGF) 検出 (早大) ○田島慎也，角皆光浩，石井陽子，川原田 洋 |
| 303 | 多層ｶｰﾎﾞﾝﾅﾉﾁｭｰﾌﾞを気管注入したﾗｯﾄ肺の電顕観察 (産総研，産業医科大*) ○山本和弘，小林恵美子，大神 明*，森本泰夫* |
| 304 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ/ｶｰﾎﾞﾝﾍﾟｰﾊﾟｰ電極を用いた高感度HBrｶﾞｽｾﾝｼﾝｸﾞ (東京理科大，理研計器*，KAST**)○近藤剛史，松浦宏昭*，中野信夫*，藤嶋 昭**，河合武司，湯浅 真 |
10:40～11:00 休 憩 |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 11:00～12:00 座長 近藤剛史（東京理科大） | |
| 305 | 精密有機合成化学に基づく蛍光ﾅﾉﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞの多段階合成 (滋賀医科大) ○小松直樹，滝本竜哉，木村隆英，茶野徳宏 |
| 306 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ粉末の光学活性官能基化学修飾および不斉認識挙動 (産総研，九州工大*) ○中村挙子，大花継頼，萩原佑太*，坪田敏樹* |
| 307 | ﾒﾙｶﾌﾟﾄﾌｪﾆﾙ基修飾ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ表面からのDNA放出 (産総研，Fraunhofer Institute for Applied Solid-State Physics*) ○上塚 洋，中村挙子，山田貴壽，ﾈｰﾍﾞﾙ ｸﾘｽﾄﾌ*，藤森直治 |
12:00～13:00 昼 休 み |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 13:00～14:40 座長 長谷川雅考（産総研） | |
| 308 | 窒素酸化物による水素終端ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞFETのDC,RF特性の向上 (NTT･物性研) ○ﾐﾊｴﾙ ｸﾎﾞｳﾞｨｯﾁ，嘉数 誠，山内喜晴 |
| 309 | 水素終端(111)面ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ基板上に作製したMOSFEETの高周波特性 (早大) ○佐藤隼介，柘植恭介，川原田 洋 |
| 310 |
真空紫外線/ｵｿﾞﾝ処理を用いて形成したp型ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞｼｮｯﾄｷｰﾀﾞｲｵｰﾄﾞ |
| 311 | CVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞを用いた積層型SNSｼﾞｮｾﾌｿﾝ接合 (早大，産総研*，物材機構**) ○渡邉 恵，河野明大，北郷伸弥，川原田 洋，梅沢 仁*，山口尚秀**，高野義彦** |
| 312 | ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞp-i-n接合ﾀﾞｲｵｰﾄﾞからの電子放出 (産総研) ○竹内大輔，小倉政彦，加藤宙光，山崎 聡 |
14:40～15:00 休憩 |
オ－ラルセッション（Ａ会場） |
| 15:00～16:20 座長 杉野 隆（大阪大学） | |
| 313 |
ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ紫外線ｾﾝｻにおける光伝導利得および永続的光伝導のﾒｶﾆｽﾞﾑ |
| 314 | Photocurrent gain in intrinsic single crystal diamond (物材機構)○寥 梅勇，寺地徳之，小泉 聡，小出康夫 |
| 315 | ﾘﾌﾄｵﾌ法を用いてCVD合成された大面積単結晶ﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ自立膜における電荷輸送特性の測定 (北大，産総研*) ○藤田文行，垣本明徳，金子純一，坪内信輝* |
| 316 |
高濃度ﾎﾞﾛﾝﾄﾞｰﾌﾟCVDﾀﾞｲﾔﾓﾝﾄﾞ薄膜の断面TEM観察による結晶構造評価 |
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※ＤＬＣ国際特別セッション※
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| 10:00～12:00 | |
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P3-01 ～10 |
（10件程度） |
Invited Oral Presentation（Ｂ会場） |
| 13:30～15:00 Chair:Dr. Atsushi Hirata（Tokyo Inst. of Technol.） | |
| DLC1 | Progress for carbon film standardization in Germany Dr. Jan Gaebler（Fraunhofer Institutte for Surface Engineering and Thin Films） |
| DLC2 | Review of the 1st Workshop and the Current Endeavor for the DLC Standardization in Korea Dr. Kwang-Ryeol Lee (Korean Institute Science and Technology) |
| DLC3 | Current Topic of Industrial Application of DLC Dr. Naoto Ohtake (Tokyo Institute of Technology) |
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