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日 時：平成３年１２月５日（木），６日（金）
会 場：筑波研究交流センター
第１日 ［１２月５日（木）］
◇１０：００～１２：００
101 電界処理法によるダイヤモンド核発生の機構
（電気通信大）湯郷成美，金井 尚，木村忠正 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 4
102 ダイヤモンドのエピタキシャル成長過程の観察
（青学大・理工）○小泉 聡，鈴木一博，犬塚直夫 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 6
103 ＣＶＤダイヤモンドの成長初期過程の研究
（九大・工）○前田英明，碇 誠司，草壁克己，諸岡成治 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ 8
104 炭素イオンを注入したシリコン基板上へのダイヤモンド成長
（松下電器，阪大・工*）○出口正洋，北畠 真，平尾 孝，森 勇介*，馬 京昇*，伊藤利道*，平木昭夫* ・・・・・・・・・・・・・・・ 10
105 ダイヤモンド薄膜へのイオン注入
（阪大・工，大阪ダイヤ*，松下電器**）○森 勇介，馬 京昇，伊藤利道，平木昭夫，西村一仁*，
出口正洋**，北畠 真**，平尾 孝 ・・・・・・・・・ 12
106 Ｆｅ／Ｓｉ基板上へのダイヤモンド合成Ⅱ
（電機大・理工，電機大・工*）○小林健二，六倉信喜*，町 好雄*，中野朝安 ・・・・・・ 14
◇１２：００～１３：００ ［昼休み］
◇１３：００～１４：４０ ［ポスターセッション］
P01 ＣＶＤダイヤモンド（００１）表面のＳＴＭ観察
（住友電工）今井貴浩 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 20
P02 ダイヤモンド（１００）表面の２×１再構成構造の研究
（早大・理工）川原田洋，○津川和夫，星野忠次，大泊 巌 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 22
P03 エッチングによるダイヤモンド核成長の分析
（電機大・理工，電機大・工*）○小林健二，六倉信喜*，町 好雄*，中野朝安 ・・・・・・ 24
P04 気相合成ダイヤモンド表面の相転移
（阪大・工）○森 勇介，栄森信広，馬 京昇，伊藤利道，平木昭夫 ・・・・・・・・・・・・ 26
P05 ダイヤモンドの電荷－1の空孔のＥＳＲ
（図書館大，無機材研*）○磯谷順一，神田久生* ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 28
P06 ダイヤモンドの格子欠陥の赤外吸収とその同位体効果
（阪大・基礎工，京大・原子炉*，無機材研**，住友電工***）○山田由美，西田良男，岡田守民*，
小林慎江*，佐藤周一***，神田久生**，中島 猛*** ・・・・・・・・・・・・・・・ 30
P07 気相合成ダイヤモンドの光伝導度測定
（阪大・工，大阪ガス*，早大・理工**）○曽木忠幸*，川原田洋**，馬 京昇，平木昭夫 ・・・・・・・・・・・・・・ 32
P08 多結晶ダイヤモンド薄膜電界効果トランジスタ
（神戸製鋼）○西村耕造，加藤理枝，宮内重明，小橋宏司 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ 34
P09 マイクロ波プラズマＣＶＤによるダイヤモンド膜合成
（電気興業）○大平義和，石堀宏一 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 36
P10 ＣＨ３ＯＨ原料ガスによるダイヤモンド薄膜形成
（半導体エネルギー研）○井上 亨，角野真也，若泉和宏，宮永昭治，山崎舜平 ・・・・・・・・38
P11 有磁場プラズマＣＶＤ法を用いた希ガスからのダイヤモンド薄膜の合成
（阪大・工，積水化学*，早大・理工**）湯浅基和*，○屋良卓也，馬 京昇，川原田洋**，平木昭夫 ・・・・・・・・・・・・・・ 40
P12 マイクロ波プラズマＣＶＤ法によるダイヤモンド合成におけるマイクロ波電力の影響
（小野田セメント*，無機材研）○石川淳*，加茂睦和，安藤寿浩，佐藤洋一郎 ・・・・・・・ 42
P13 熱フィラメント法におけるフィラメントの見かけ温度の特徴的な変化
（広島県立西部工業技術センター）○筒本隆博 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 44
P14 気相合成ダイヤモンド粉の焼結特性
（東工大・工）○戸倉 和，金 炫秀，大竹尚登，吉川昌範 ・・・・・・・・・・・・・・・・・ 46
P15 ブラズマコート法によりＴｉＮコーティングを施した微粒ｃＢＮの超高圧固相焼結
（名工試，リード*，日清製粉**）吉田晴男，粂 正市，隅田幸雄*，木村健一*，山田幸良**，○冬木 正** ・・・・・・・・・・・・・・・・48
P16 アルミナ被覆ｃＢＮ／アルミナ混合粉体のｃＢＮ準安定領域における熱間静水圧加圧焼結
（名工試，リード*，日清製粉**）吉田晴男，粂 正市，隅田幸雄*，○木村健一*，山田幸良**，冬木 正** ・・・・・・・・・・・・・・・・50
P17 ＴｉＮ被覆ダイヤモンド／アルミナ混合粉体のダイヤモンド準安定領域における熱間静水圧加圧焼結
（名工試，リード*，日清製粉**）粂 正市，吉田晴男，隅田幸雄*，○木村健一*，山田幸良**，冬木 正** ・・・・・・・・・・・・・・・・52
P18 炭化されたＳｉ表面へのダイヤモンド合成
（大阪チタニウム，無機材研*）○下崎新二，加茂睦和*，安藤寿浩*，佐藤洋一郎 ・・・・・54
◇１４：４０～１７：４０
107 炭化フッ素－水素混合ガスによるダイヤモンド成膜
（半導体エネルギー研）○宮永昭治，角野真也，井上 亨，大谷 久，若泉和宏，本郷雅史，林 茂則，山崎舜平 ・・・・・・・・・・・・・・・・60
108 気相法による粒子上へのダイヤモンド微粒子合成－粒子析出密度に対する流動層処理の効果－
（群馬大・工）宝田恭之，田村康太郎，竹沢英泰，中川紳好，加藤邦夫 ・・・・・・・・・・・62
109 Ｃ－ＢＮ膜の膜組織に及ぼすアニーリングの効果
（日工大）村川正夫，○渡部修一，三宅正二郎 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・64
110 合成ダイヤモンドのラマン散乱のアイソトープ効果と誘導ラマン散乱
（阪大・基礎工，阪大・教養*，京大・原子炉**，無機材研***，住友電工****）○半沢弘昌，梅村信弘，
西田良男，野崎浩一*，大野 健*，岡田守民**，小林慎江**，神田久生***，矢津修示**** ・・・・・・・・・・・・・・・・66
111 ａ－Ｃ：Ｈの電子エネルギー損失分光法による構造評価
（資源環境技研）○吉澤徳子，白石 稔 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・68
112 顕微分光による燃焼炎高品質ダイヤの品質評価
（筑波大・物質*，日工大**，理研***，東大・理****）○鍵 裕之*，広瀬洋一**，天沼修二**，盛口 裵**，
高橋和也***，田隅三生**** ・・・・・・・・・・・・・・・・・・70
113 熱フィラメントＣＶＤダイヤモンド膜のCH４濃度変化についてのＴＥＭ観察
（三菱マテリアル）大沢雄三，○江藤浩之，北川芳博，菊池則文 ・・・・・・・・・・・・・・ 72
114 反射電子顕微鏡法を用いたダイヤモンド（００１）表面の観察
（早大・理工）川原田洋，○佐々木英博，青木 誠，山口 亮，津久井克幸，大泊 巌 ・・・・ 74
l15 Ｈ２－ＣＨ４－Ｏ２系で合成したダイヤモンドの表面構造
（キャノン）平林敬二 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 76
◇［懇親会］ １８：００～１９：３０
第２日 ［１２月６日（金）］ ◇９：００～１０：２０
201 Ｓｉ及びダイヤモンド表面界面の分子動力学によるシミュレーション
（松下電器）北畠 真 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 82
202 ｎ－ダイヤモンドの構造モデルとＣＶＤとの接点
（東工大・工材研，横浜市大*）Ｏ平井寿子，近藤建一，杉浦 央* ・・・・・・・・・・・・ 84
203 熱フィラメントＣＶＤ法によるダイヤモンド薄膜の内部応力
（日本電気）Ｏ相川由実，馬場和宏，正畑伸明 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 86
204 ダイヤモンド気相合成反応の活性化エネルギー
（川鉄・ハイテク研）Ｏ近藤英一，太田与洋，三友 亨，大塚研一 ・・・・・・・・・・・・・ 88
◇［休 憩］
◇１０：３０～１２：１０
205 水素・酸素原子によるグラファイト分解反応の理論的考察
（京セラ）Ｏ山下祥二，福丸文雄，富山明俊 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 90
206 ＦＴ－ＩＲによるダイヤモンド表面の水素化反応の観察
（無機材研）Ｏ安藤寿浩，石井紀彦，加茂睦和，佐藤洋一郎 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 92
207 ニューダイヤモンドはいくつあるか？
（東工大・工材研）近藤建一，平井寿子 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・94
208 プラズマコート法によりコーティングを施したＴｉＮ被覆微粒ｃＢＮ／ＳｉＣウィスカー複合体及び
ＴｉＮ被覆微粒ｃＢＮ／ＴｉＮ被覆粗粒 ・・・・・・・・・・・・・ 96
ｃＢＮ／ＳｉＣウィスカー複合体の超高圧固相焼結
（名工試，リード*，日清製粉**）吉田晴男，粂 正市，隅田幸雄*，○木村健一*，山田幸良**，
冬木 正** ・・・・・・・・・・・・96
209 プラズマコート法によりコーティングを施したＴｉＮ被覆微粒ダイヤモンド／Ｓｉ３Ｎ４粒子複合体及び
ＴｉＮ被覆微粒ダイヤモンド／Ｓｉ３Ｎ４／ＳｉＣウィスカー複合体の超高圧固相焼結
（名工試，リード*，日清製粉**）粂 正市，吉田晴男，隅田幸錐*，○木村健一*，山田幸良**，冬木 正** ・・・・・・・・・・・・・ 98
◇［昼休み］
◇１３：００～１４：２０
210 リン触媒を用いたダイヤモンドの結晶育成
（無機材研）○赤石 實，神田久生，山岡信夫，大沢俊一 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 104
211 超高圧水熱条件下におけるダイヤモンドの結晶成長
（無機材研）○山岡信夫，赤石 實，神田久生，大沢俊一 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 106
212 Ｎｉ合金を用いたダイヤモンド合成
（東工大・工）○飯塚 誠，神崎正美，福長 脩 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 108
213 不純物をドープした立方晶ＢＮ多結晶体の高圧合成
（無機材研）○谷口 尚，田中順三，三島 修，大沢俊一，山岡信夫 ・・・・・・・・・・・ 110
◇［休 憩］
◇１４：３０～１７：００
214 金属／真性半導体／半導体構造を持つ多結晶ダイヤモンドダイオードの電気的特性
（神戸製鋼，神鋼米国研究所*，ノースカロライナ州立大**）○宮田浩一，D.L Dreifus*，K.Das*，J.T.Glass**，小橋宏司 ・・・・・・・ 112
215 ダイヤモンド薄膜マイクロサーミスタ
（神戸製鋼）○加藤理枝，西村耕造，宮内重明，小橋宏司 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 114
216 ダイヤモンド－水素化アモルファスシリコンのヘテロ接合特性
（電総研，東海大・工*）清田英夫*，泉谷 宏*，大串秀世，岡野 健*，黒須楯生*，飯田昌盛* ・・・・・・・・・・・・・・・116
217 気相合成ダイヤモンド膜の高周波ＳＡＷフィルターへの応用
（住友電工）○中幡英章，八郷昭広，鹿田真一，藤森直治 ・・・・・・・・・・・・・・・・ 118
◇［休 憩］
218 ＣＶＤダイヤモンドの耐摩耗特性
（大阪ダイヤ，阪大・工*）○西村一仁，馬 京昇*，富森 紘*，平木昭夫* ・・・・・・ 120
219 １陰極－３陽極アーク放電プラズマジェットＣＶＤ装置の試作－プラズマジェット流におよぼす電極形状・位置の影響－
（東工大・工）○平田 敦，吉川昌範 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 122
220 常圧チャンバーを用いたトーチ法によるダイヤモンドコーテッドインサートの作成
（日工大）村川正夫，○竹内貞雄 ・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 124 |